龙8中国唯一官方网站ღ✿✿★，龙8头号玩家龙8国际官方网站登录ღ✿✿★，龙8国际唯一官方网站登录龙8国际官方网站ღ✿✿★，long8龙8游戏ღ✿✿★，2025年ღ✿✿★，被誉为“浸润式光刻之父”的台积电前研发副总裁林本坚在接受中国台湾媒体采访时表示ღ✿✿★：中国企业不一定要跟你去争夺7nmღ✿✿★、5nm的技术进度ღ✿✿★，他们可能会用另一种方法来达到这个目的ღ✿✿★。

　　中国企业的手中还有很多当年从ASML采购的浸润式DUV光刻机ღ✿✿★，这些光刻机可以通过多次曝光的技术制造7nm芯片ღ✿✿★，甚至是5nm芯片ღ✿✿★。

　　当然了ღ✿✿★，现在国际技术已经进入了EUV时代龙八国际娱乐官方网站ღ✿✿★，用DUV去制造5nm芯片在理论上是可行的ღ✿✿★，不过需要付出极大的代价ღ✿✿★。

　　这个代价不只是经济上ღ✿✿★，还有技术层面把你玩坏掉免费第3集樱花ღ✿✿★，你得花费大量时间去解决良品率和芯片产能的问题ღ✿✿★，目前没有企业敢尝试ღ✿✿★。

　　林本坚是浸润式光刻技术的开创者和奠基人ღ✿✿★，该技术的革命性在于ღ✿✿★，它通过将镜头与硅片之间的介质从空气改为超纯水ღ✿✿★，利用水的折射率高于空气的特性ღ✿✿★，有效提高了光刻系统的数值孔径ღ✿✿★，从而在不改变光源波长的情况下ღ✿✿★，显著提升了分辨率把你玩坏掉免费第3集樱花ღ✿✿★。

　　这项技术成功地将193 nm深紫外光刻的生命周期从45nm节点一路延伸至7nm节点ღ✿✿★，除EUV技术之外ღ✿✿★，浸润式技术是唯一一种可以制造出规模化先进芯片的技术方法ღ✿✿★。

　　他认为ღ✿✿★，通过极其精密的工艺控制ღ✿✿★、材料创新和算法优化ღ✿✿★，浸润式光刻系统的潜力尚未到头ღ✿✿★。例如ღ✿✿★，对光刻胶化学性质的深度改良ღ✿✿★、更先进的分辨率增强技术ღ✿✿★，以及近乎极致的镜头像差校正ღ✿✿★，都可以在物理极限的边缘进一步压缩出更高的成像精度ღ✿✿★。

　　多重图案化技术是实现超越单次曝光分辨率极限的关键方法ღ✿✿★，其核心体系是采用多次光刻-刻蚀工艺的交替把你玩坏掉免费第3集樱花把你玩坏掉免费第3集樱花ღ✿✿★，制造出更加复杂结构的单个芯片ღ✿✿★。

　　在EUV技术没有完全商业化之前ღ✿✿★，多重图案化技术是制造先进芯片的唯一途径ღ✿✿★，台积电曾经用这种技术率先给华为制造了7nm工艺的麒麟990 4G芯片龙八国际娱乐官方网站ღ✿✿★。

　　但是在EUV光刻机正式交付之后把你玩坏掉免费第3集樱花ღ✿✿★，台积电便迅速将技术转向EUVღ✿✿★，又给华为制造了一批工艺水平更好的麒麟990 5Gღ✿✿★。虽然两款芯片都是7nm工艺ღ✿✿★，但是EUV技术可以单次曝光成像ღ✿✿★，其制造的芯片在性能以及功耗上面表现优异ღ✿✿★。

　　针对用DUV制造更先进的5nm芯片ღ✿✿★，林本坚强调的是技术上的可行性龙八国际娱乐官方网站ღ✿✿★。对于这些志在突破技术封锁ღ✿✿★、确保关键领域供应链安全的中国企业而言ღ✿✿★，初期的低良率和高成本是可以接受的阶段性代价ღ✿✿★。关键在于证明技术路径是通的ღ✿✿★，而后再通过持续的工程优化和规模效应来改善经济性ღ✿✿★。

　　技术机构Techinsights曾经针对华为的mate 60pro手机进行了拆解把你玩坏掉免费第3集樱花ღ✿✿★，发现其内部芯片采用了多重图案化的制造技术ღ✿✿★，具有7nm特性ღ✿✿★。

　　再结合ASML首席财务官罗杰·达森在2023年财报上面表述的内容显示ღ✿✿★，ASML给中国企业交付了大量曾经订购的浸润式光刻机ღ✿✿★，这些光刻机是制造国产7nm芯片的核心设备ღ✿✿★。

　　根据英国《金融时报》发布的专栏报告指出ღ✿✿★，为了解决先进芯片的断供问题ღ✿✿★，中国企业付出了极其高昂的经济代价ღ✿✿★，单靠某一些企业的力量ღ✿✿★，是根本无法完成如此巨大的技术跨越龙八国际娱乐官方网站ღ✿✿★，这背后有中国举全国之力的大量支持ღ✿✿★。

　　国际媒体路透社在2023年关于中国芯片突破的报道中引述专家观点称ღ✿✿★，中国自主芯片的进展ღ✿✿★，表明中国在先进制程上找到了变通方案ღ✿✿★。美国官员和产业专家对其进行拆解分析后也表示ღ✿✿★，中国在先进半导体制造方面取得了超出预期的进展ღ✿✿★。

　　林本坚在访谈中还提到了中国大陆厂商的现有设备情况ღ✿✿★，主要指的是ASML的TWINSCAN NXT:2000i 或更早的1980iღ✿✿★、1970i等型号的DUV光刻机ღ✿✿★。

　　这些设备虽然在2024年被列入荷兰的出口管制范围龙八国际娱乐官方网站龙八国际娱乐官方网站ღ✿✿★，但是中国企业在管制生效前已采购了一定数量ღ✿✿★，并进行了深入的消化把你玩坏掉免费第3集樱花ღ✿✿★、吸收和再创新ღ✿✿★。

　　美国自2020年开始实施出口管制以来ღ✿✿★，旨在通过切断中国获取EUV乃至部分先进DUV光刻机的渠道ღ✿✿★，将中国半导体产业锁死在“落后的技术世代”ღ✿✿★。

　　然而ღ✿✿★，事实证明了绝对的技术封锁往往难以奏效ღ✿✿★，反而会激发被封锁方最大的创新潜能把你玩坏掉免费第3集樱花ღ✿✿★。中国半导体产业正是在这种压力下ღ✿✿★，被迫进入了一种“极限生存”模式ღ✿✿★。

　　企业ღ✿✿★、研发机构和政府资源被高度集中ღ✿✿★，目标直指在现有条件下实现最大可能的突破ღ✿✿★。不计短期成本ღ✿✿★、以技术验证和供应链安全为首要目标的投资ღ✿✿★，使得中芯国际ღ✿✿★、上海微电子等企业有动力和资源去挑战DUV光刻的理论极限ღ✿✿★。这与商业公司追求利润最大化的逻辑有本质区别ღ✿✿★，更接近于国家战略驱动的技术攻关ღ✿✿★。